マスク ブランクス。 SKC、半導体工程の核心素材「ブランクマスク」ハイエンド級の国産化に拍車

AGC、EUV露光用フォトマスクブランクス供給体制をさらに増強 | ニュース | AGC

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近年、最先端の微細化プロセスに対応するため、マスク技術においてもEUVや新構造マスクの適用などの様々な技術革新が行われております。 これに対応するため、マスクブランクス検査のさらなる高性能・高機能化が急務となっております。 本装置はすでに多くの引き合いをいただいており、複数台の納入が決定しております。 レーザーテックは、これからも次世代高品質マスクブランクスの出荷品質の向上およびマスクショップでのマスクブランクス受け入れ検査やマスク製造プロセス管理の改善に向けて貢献してまいります。 次世代高品質マスクブランクス欠陥検査に有効な高検出感度と、量産工場での出荷・受入検査に適した高スループットを両立した最新鋭欠陥検査装置• 既にマスクブランクス検査の業界標準機となっているMAGICSの基幹技術をベースに、検査光学系の刷新とともに、当社マスクパターン検査装置で培った高速検査回路技術を採用• サブストレートのみならず、最先端半導体用マスクブランクス各層における欠陥検出感度を飛躍的に向上させ、より高品質なブランクスの選別が可能• カセットは、ブランクスメーカー向け多段カセットから、マスクショップ向けRSP、MRPおよびEUVL向けDual podまで対応が可能• EUVマスクブランクス、光マスクブランクス、サブストレートの欠陥検査• 欠陥レビュー• 欠陥サイジング• 製品詳細.

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基板ケースに収納して梱包・出荷となります。 レンジ17nm。 外周のレジスト盛り上がりは目視約7mmでFF品と比較し作画エリアが広がりました。 ご使用波長での、位相差は膜厚でコントロール出来ます。 又透過量の調節は、膜組成変更で合わせ込み可能です。 従って膜面を基準にした場合は凸凹逆になります。 【面形状差分】 フラットネスは膜付によって変化しますが、除膜にすれば元に戻ります。 実績としては30~70%透過があります。 FHTはCrをベースにした波長依存性の少ない膜で低透過に向いています。 今までに10~40%透過があります。 このようにハーフトーン膜がCr膜の上側に存在するタイプはトップ型ハーフトーンマスクと呼ばれています。 ハーフトーンマスクの露光 ハーフトーンブランクス ハーフトーンブランクスは基板面にハーフトーン膜、中間部にエッチングストッパー膜、表面にCr膜があります。 この方法で作られたマスクはボトム型ハーフトーンマスクと呼ばれています。 現在ボトム型ハーフトーン膜はウエット処理だけでは難しいと考えられています。 CSTはウエット処理で可能なハーフトーン膜の開発を続けていますがまだ実用化に至っていません。

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新製品:マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置MAGICSシリーズ「M9650/M9651」を発表|2018年|トピックス|レーザーテック株式会社

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最も大きな課題となっていた、光源の出力不足によるスループットの低さについては、実際に露光装置を手がけるASML(オランダ)が時間あたり125枚以上を達成した(注:18年2月に開催されたSPIE Advanced Lithographyでは140枚に向上したとアナウンス)。 ここまでEUVの導入を急ぐのは、やはりプロセスコストの上昇が大きく影響する。 現行技術のArF液浸露光ではマルチプルパターニング(多重露光)など、いわゆる「足し算」を行うことで微細パターンを形成していた。 しかし、コストの上昇が大きな問題となっており、これをいかに減らしていくかが求められていた。 TSMCは18年から最先端の量産プロセスが7nmに突入する。 EUVを使わない7nmはすでに17年4~6月期からリスク生産を開始しており、18年初頭から量産に移行する。 「世界で唯一」の装置を製品化したレーザーテック EUVリソが量産工程に導入されることで、関連する装置・材料メーカーの業績拡大が期待される。 まず当然のことながら最も影響を受けるのは露光装置だ。 EUVに関してはASMLが独占的な地位を確保しており、18年以降、EUV露光装置の出荷台数は大きく増える見通し。 同社は17年第4四半期(10~12月)にEUV露光装置を新たに10台受注しており、これにより17年12月末の受注残台数は過去最高の28台まで増加した。 ちなみに18年は通年で22台の出荷を計画している。 ただ、海外企業ばかりではない。 露光装置はASMLが独占するものの、露光工程で「原版」の役割を担うマスク/ブランクス分野において、日系企業のポジションは総じて高い。 そのうちレーザーテックは、EUVマスクブランクス向け欠陥検査装置を手がけており、EUV向けに事業拡大が期待される企業の1社だ。 マスクブランクスとは、半導体露光工程で「原版」の役目を担うフォトマスクの母材。 パターンを形成してフォトマスクとして仕上げる前の欠陥検査は非常に重要だが、これまでEUV用マスクブランクスの欠陥を検出する装置が事実上なく、大きな課題になっていた。 これに対し、レーザーテックは17年に世界で唯一EUV光源を使って、ブランクスの欠陥検査を行える装置「ABICS」を製品化した。 すでに同社はABICSを2台受注しているほか、17年9月に半導体関連で約160億円の大型受注を獲得したと発表。 「半導体関連」ということ以外、詳細は一切明らかにされていないが、このなかにマスクブランクス検査装置をはじめとするEUV関連装置が含まれている可能性も十分にありそうだ。 同社の年間売上高は210億円(18年6月期予想)であることを考えると、この受注高が持つ意味は非常に大きいことがわかる。 HOYAがブランクス大手、旭硝子も事業拡大に意欲 また、このマスクブランクス検査装置を使って、実際にマスクブランクスを供給する企業も日系メーカーで構成されている。 筆頭はHOYAであり、半導体用マスクブランクス事業の17年度第3四半期(17年4~12月)売上高は前年同期比8%増を達成。 うち、EUV用ブランクスが占める割合は15%程度であり、EUV用に限れば30%以上の伸びを記録している。 また、旭硝子もEUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を、グループ会社であるAGCエレクトロニクスで18年から大幅に増強することを決定。 生産能力は明らかにされていないが、18年に売上高ベースで17年比倍増させるべく能力を増強。 20年に一連の設備投資が完了する見込みで、20年時点での売上高は17年比で8倍まで拡大させていきたい考えだ。 このほかにも、マスクをコンタミネーション(ゴミ)から守る保護膜の役割を担うペリクルなどもあり、ここも日系優位の市場となっている。 EUVが量産工程で適用され、実際に稼働すれば、今後は装置だけでなく、材料分野にも影響が及ぶことになる。 同分野ではフォトレジストなどへの影響が見込まれており、EUV用レジストでは東京応化工業や信越化学工業が顧客からの認定取得で他社をリードする。 本格導入が期待されるEUVだが、「実際の現場で思ったようなスループットが出ていない」といった声も聞こえてくる。 (稲葉雅巳) 電子デバイス産業新聞 副編集長 稲葉 雅巳 参考記事.

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